GT-1800直接光控光學(xué)真空鍍膜機(jī)
GT-1800直接光控光學(xué)真空鍍膜機(jī)
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GT-1800直接光控光學(xué)真空鍍膜機(jī)
產(chǎn)品描述
GT系列高端光學(xué)真空鍍膜設(shè)備用于制備近紫外波段至近紅外波段的窄帶濾光膜以及IR-CUT等規(guī)整及非規(guī)整膜系。
設(shè)備特點(diǎn)：
· 腔體尺寸φ1150-φ1800mm
· 高精度直接/間接光學(xué)膜厚監(jiān)控系統(tǒng)
· 高離子流密度射頻離子源
· 雙電子槍，多點(diǎn)和環(huán)型坩堝可鍍100層以上
· ACS全自動(dòng)鍍膜控制系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)鍍膜過(guò)程
· 工件架可選擇球傘式、行星式或翻轉(zhuǎn)式
· 排氣系統(tǒng)低真空泵組+高真空泵組+深冷
| 真空腔室尺寸 | SUS304 φ1800mmx1900mm（H） |
| 工件盤有效鍍膜尺寸 | φ1680mm |
| 基板回轉(zhuǎn)速度 | 3r/min-30r/min(可變) |
| 光學(xué)膜厚監(jiān)控 |
直接監(jiān)控 波長(zhǎng)范圍：360nm-2400nm 波長(zhǎng)精度：＜±1nm 監(jiān)控器類型：透射 |
| 晶振膜厚儀 | XTC-3+6點(diǎn)晶控 |
| 蒸發(fā)源 | E型電子槍2套 |
| 離子源 | GTRF23 |
| 真空排氣 | 機(jī)械泵+分子泵/低溫泵/+深冷捕集泵 |
| 極限真空 | 8.0x10-5Pa |
| 排氣時(shí)間 | 大氣-3.0x10-3Pa/12min/常溫空載 |
| 基板溫度 | 最高350℃ |
| 空間要求 | 約2.7m（寬）x4.6m（深）x2.7m（高） |
| 電源要求 | 3相4線380v50Hz、約80kw |
| 冷卻水要求 | 160L/min、0.2-0.4MPa、18-25℃ |
| 壓縮空氣 | 0.6MPa |
| 設(shè)備重量 | 約12000kg |
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GTV-600光學(xué)真空鍍膜機(jī)
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