設(shè)備簡介：

國泰真空全自主研發(fā)設(shè)計制造的GTRF-17和GTRF-23射頻離子源主要用于精密光學(xué)鍍膜，它具有能量高、能量分布均勻性好、工作時間長、污染小等優(yōu)點，在鍍膜領(lǐng)域的主要應(yīng)用是離子束輔助沉積和離子束清洗等。

設(shè)備主要規(guī)格參數(shù)：

操作主界面：

工藝應(yīng)用：

IR-CUT曲線實測：

環(huán)境測試：

水煮15分鐘后，曲線無漂移

水煮后經(jīng)3M膠帶白格測試未發(fā)現(xiàn)脫膜

運行狀態(tài)：

射頻離子源通過改進(jìn)能量和電流的均勻性，提高了膜層的堆積密度和材料的氧化度，從而抑制膜層的溫度漂移及波長漂移！同時解決了膜層牢固度和膜料折射率等問題。