GT-1350直接光控光學真空鍍膜機
GT-1350直接光控光學真空鍍膜機
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GT-1350直接光控光學真空鍍膜機
產(chǎn)品描述
GT系列高端光學真空鍍膜設(shè)備用于制備近紫外波段至近紅外波段的窄帶濾光膜以及IR-CUT等規(guī)整及非規(guī)整膜系。
設(shè)備特點:
· 腔體尺寸φ1150-φ1800mm
· 高精度直接/間接光學膜厚監(jiān)控系統(tǒng)
· 高離子流密度射頻離子源
· 雙電子槍,多點和環(huán)型坩堝可鍍100層以上
· ACS全自動鍍膜控制系統(tǒng)實現(xiàn)全自動鍍膜過程
· 工件架可選擇球傘式、行星式或翻轉(zhuǎn)式
· 排氣系統(tǒng)低真空泵組+高真空泵組+深冷
真空腔室尺寸 | SUS304 φ1350mmx1500mm(H) |
工件盤有效鍍膜尺寸 | φ1223mm |
基板回轉(zhuǎn)速度 | 3r/min-30r/min(可變) |
光學膜厚監(jiān)控 |
直接監(jiān)控 波長范圍:360nm-2400nm 波長精度:<±1nm 監(jiān)控器類型:透射 |
晶振膜厚儀 | XTC-3+6點晶控 |
蒸發(fā)源 | E型電子槍2套 |
離子源 | GTRF17/GTRF23 |
真空排氣 | 機械泵+分子泵/低溫泵/+深冷捕集泵 |
極限真空 | 8.0x10-5Pa |
排氣時間 | 大氣-3.0x10-3Pa/12min/常溫空載 |
基板溫度 | 最高350℃ |
空間要求 | 約2.9m(寬)x4.6m(深)x2.7m(高) |
電源要求 | 3相4線380v50Hz、約70kw |
冷卻水要求 | 100L/min、0.2-0.4MPa、18-25℃ |
壓縮空氣 | 0.6MPa |
設(shè)備重量 | 約5000kg |
上一個
無
鍍膜樣片
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