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GT-1350直接光控光學真空鍍膜機

GT-1350直接光控光學真空鍍膜機

GT-1350直接光控光學真空鍍膜機

GT系列高端光學真空鍍膜設(shè)備用于制備近紫外波段至近紅外波段的窄帶濾光膜以及IR-CUT等規(guī)整及非規(guī)整膜系。
產(chǎn)品咨詢電話:400-6667-357
GT-1350直接光控光學真空鍍膜機
產(chǎn)品描述

GT系列高端光學真空鍍膜設(shè)備用于制備近紫外波段至近紅外波段的窄帶濾光膜以及IR-CUT等規(guī)整及非規(guī)整膜系。

 

設(shè)備特點:

· 腔體尺寸φ1150-φ1800mm

· 高精度直接/間接光學膜厚監(jiān)控系統(tǒng)

· 高離子流密度射頻離子源

· 雙電子槍,多點和環(huán)型坩堝可鍍100層以上

· ACS全自動鍍膜控制系統(tǒng)實現(xiàn)全自動鍍膜過程

· 工件架可選擇球傘式、行星式或翻轉(zhuǎn)式

· 排氣系統(tǒng)低真空泵組+高真空泵組+深冷

 

GT-1350主要規(guī)格參數(shù):

真空腔室尺寸 SUS304 φ1350mmx1500mm(H)
工件盤有效鍍膜尺寸 φ1223mm
基板回轉(zhuǎn)速度 3r/min-30r/min(可變)
光學膜厚監(jiān)控

直接監(jiān)控

波長范圍:360nm-2400nm

波長精度:<±1nm

監(jiān)控器類型:透射

晶振膜厚儀 XTC-3+6點晶控
蒸發(fā)源 E型電子槍2套
離子源 GTRF17/GTRF23
真空排氣 機械泵+分子泵/低溫泵/+深冷捕集泵

 

基本性能:

極限真空 8.0x10-5Pa
排氣時間 大氣-3.0x10-3Pa/12min/常溫空載
基板溫度 最高350℃

 

工作條件:

空間要求 約2.9m(寬)x4.6m(深)x2.7m(高)
電源要求 3相4線380v50Hz、約70kw
冷卻水要求 100L/min、0.2-0.4MPa、18-25℃
壓縮空氣 0.6MPa
設(shè)備重量 約5000kg

鍍膜樣片

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