磁控濺射真空鍍膜設(shè)備
產(chǎn)品介紹
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設(shè)備型號(hào):磁控濺射真空鍍膜設(shè)備 |
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產(chǎn)品介紹 |
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磁控濺射鍍膜機(jī)應(yīng)用于塑料制品、陶瓷、樹脂、水晶玻璃制品等、工藝品、塑料手機(jī)殼、電子產(chǎn)品、建材等行業(yè)。 該系列設(shè)備主要是使用直流(或中頻)磁控濺射，可適應(yīng)廣泛鍍膜靶材，如:銅、鈦、鉻、不繡鋼、鎳等金屬材料， 可以利用濺射工藝進(jìn)行鍍膜，可提高膜層的附著力、重復(fù)性、致密度、均勻度等特點(diǎn)。 |
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設(shè)備主要參數(shù) |
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真空室尺寸:1200，1400,1600,1800 |
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真空系統(tǒng):旋片泵+羅茨泵+擴(kuò)散泵+維持泵(或選分子泵、深冷泵、深冷系統(tǒng)) |
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極限真空:6x10-4Pa |
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抽氣時(shí)間:空載大氣抽至5x10-3Pa,>13min |
上一個(gè)
GTHC-8空心陰極霍爾離子源
下一個(gè)
RL-PLUS全自動(dòng)溶料機(jī)
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